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水処理方法および水処理装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190528348
申请日
:
2018-03-01
公开(公告)号
:
JPWO2019008822A1
公开(公告)日
:
2019-12-12
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01D21/01
IPC分类号
:
B01D61/02
B01D61/14
C02F1/04
C02F1/44
C02F1/56
C02F3/12
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
水処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP3193128U
,2014-09-18
[2]
基板処理装置および基板処理方法[ja]
[P].
HONDA TAKUMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
HONDA TAKUMI
.
日本专利
:JP2024033157A
,2024-03-13
[3]
排気ガスの処理方法および処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008102708A1
,2010-05-27
[4]
基板処理装置、及び基板処理方法[ja]
[P].
NAGAI TAKASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
NAGAI TAKASHI
;
MORITA HISASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
MORITA HISASHI
.
日本专利
:JP2025098499A
,2025-07-02
[5]
基板処理装置及び基板処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017057727A1
,2018-07-19
[6]
表面処理装置、及び表面処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009119343A1
,2011-07-21
[7]
基板処理装置、及び基板処理方法[ja]
[P].
MARUMOTO HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
MARUMOTO HIROSHI
;
SAKAGUCHI KEISUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
SAKAGUCHI KEISUKE
;
YANO HIDETSUGU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
YANO HIDETSUGU
.
日本专利
:JP2024157086A
,2024-11-07
[8]
フッ化水素酸水溶液の精製方法、基板処理方法および基板処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6100664B2
,2017-03-22
[9]
正浸透水処理装置および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022129708A
,2022-09-06
[10]
炭化水素油の水素化処理触媒、その製造方法及び水素化処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016189982A1
,2018-03-15
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