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強磁性材料のためのスパッタリングシステム及びスパッタリング方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20160553468
申请日：
2015-02-19
公开(公告)号：
JP2017512255A
公开(公告)日：
2017-05-18
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C23C14/35
IPC分类号：
G11B5/851
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
磁性材料用スパッタリングターゲット、磁性材料用スパッタリングターゲット組立品及び磁性材料用スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7674586B1 ,2025-05-09
[2]
磁性材料用スパッタリングターゲット、磁性材料用スパッタリングターゲット組立品及び磁性材料用スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P]. 
ENDO YOSUKE ;
SUGIMOTO KEIJIRO ;
IWABUCHI YASUYUKI ;
HONDA KAZUYA .
日本专利 :JP2025102723A ,2025-07-08
[3]
磁性材料用スパッタリングターゲット、磁性材料用スパッタリングターゲット組立品及び磁性材料用スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7674585B1 ,2025-05-09
[4]
磁性材料用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JP1768526S ,2024-04-17
[5]
磁性材料用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JP1768503S ,2024-04-17
[6]
磁性材料用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JP1768524S ,2024-04-17
[7]
磁性材料用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JP1768504S ,2024-04-17
[8]
磁性材料用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JP1768502S ,2024-04-17
[9]
磁性材料用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JP1768525S ,2024-04-17
[10]
磁性ターゲット材料を用いたスパッタリング源の磁力解放[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020531681A ,2020-11-05
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