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放射標識されたアリール化合物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190534611
申请日
:
2018-08-03
公开(公告)号
:
JPWO2019027059A1
公开(公告)日
:
2020-09-17
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07B59/00
IPC分类号
:
A61P35/00
C07C37/62
C07C39/27
C07C51/363
C07C63/70
C07C227/16
C07C229/36
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
放射標識されたアリール化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7232527B2
,2023-03-03
[2]
放射標識された化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2017520540A
,2017-07-27
[3]
放射標識された化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6533799B2
,2019-06-19
[4]
放射標識された化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2016513083A
,2016-05-12
[5]
ビアリール化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013121873A1
,2015-05-11
[6]
標識前駆体化合物、放射性標識化合物、及びそれらの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012121285A1
,2014-07-17
[7]
アリール化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6691336B2
,2020-04-28
[8]
RI標識化合物製造装置及びRI標識化合物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6274689B1
,2018-02-07
[9]
放射性標識化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021506921A
,2021-02-22
[10]
放射性標識化合物の製造装置及び製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016194586A1
,2018-03-22
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