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放射性標識化合物の製造装置及び製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170521775
申请日
:
2016-05-13
公开(公告)号
:
JPWO2016194586A1
公开(公告)日
:
2018-03-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07C227/18
IPC分类号
:
C07C229/48
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
放射性標識化合物の製造方法及び製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7339692B2
,2023-09-06
[2]
放射性標識化合物の製造装置及び製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6758065B2
,2020-09-23
[3]
放射性標識化合物の製造装置及び製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6755862B2
,2020-09-16
[4]
放射性標識化合物の製造装置及び拘束具[ja]
[P].
日本专利
:JP6690957B2
,2020-04-28
[5]
放射性フッ素標識化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007063940A1
,2009-05-07
[6]
放射性フッ素標識化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005044758A1
,2007-11-29
[7]
RI標識化合物製造装置及びRI標識化合物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6274689B1
,2018-02-07
[8]
放射性フッ素標識化合物の製造方法及び放射性医薬組成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7424574B2
,2024-01-30
[9]
放射性フッ素標識化合物の製造方法および放射性医薬の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7159157B2
,2022-10-24
[10]
標識前駆体化合物、放射性標識化合物、及びそれらの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012121285A1
,2014-07-17
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