放射性標識化合物の製造装置及び製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20170521775
申请日
2016-05-13
公开(公告)号
JPWO2016194586A1
公开(公告)日
2018-03-22
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C07C227/18
IPC分类号
C07C229/48
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
放射性標識化合物の製造方法及び製造装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7339692B2 ,2023-09-06
[2]
放射性標識化合物の製造装置及び製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6758065B2 ,2020-09-23
[3]
放射性標識化合物の製造装置及び製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6755862B2 ,2020-09-16
[4]
放射性標識化合物の製造装置及び拘束具[ja] [P]. 
日本专利 :JP6690957B2 ,2020-04-28
[5]
放射性フッ素標識化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007063940A1 ,2009-05-07
[6]
放射性フッ素標識化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005044758A1 ,2007-11-29