軟磁性膜および軟磁性膜形成用スパッタリングターゲット[ja]

被引：0

申请号：

JP20170509306

申请日：

2016-01-07

公开(公告)号：

JPWO2016157922A1

公开(公告)日：

2018-02-22

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G11B5/667

IPC分类号：

C23C14/14 C23C14/34 G11B5/851 H01F10/16 H01F41/18

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共 38 条

[1]

ターゲットの裏面に溝を備えた磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012011329A1 ,2013-09-09

[2]

磁気記録媒体に用いる低飽和磁束密度を有する軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JP5980971B2 ,2016-08-31

[3]

磁気記録媒体に用いる低飽和磁束密度を有する軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JP5778052B2 ,2015-09-16

[4]

磁気記録媒体に用いる低飽和磁束密度を有する軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JP5980970B2 ,2016-08-31

[5]

磁気記録媒体に用いる低飽和磁束密度を有する軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JP5980972B2 ,2016-08-31

[6]

磁気記録媒体に用いる低飽和磁束密度を有する軟磁性膜層用スパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JP6062462B2 ,2017-01-18

[7]

スパッタリング装置および磁石ユニット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014010148A1 ,2016-06-20

[8]

Ｃｏ－Ｃｒ－Ｐｔ－酸化物系スパッタリングターゲット[ja] [P].

GOTO YASUYUKI ;

EGUCHI TOYOKAZU ;

WATANABE YASUNOBU ;

TADOKORO JUN .

日本专利 :JP2024010347A ,2024-01-24

[9]

マグネトロンスパッタ電極及びスパッタリング装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011024411A1 ,2013-01-24

[10]

磁気特性が向上したＣｏＺｒＴａ（Ｘ）スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP2024500561A ,2024-01-09

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