シリコンを基板上に形成する方法[ja]

被引:0
申请号
JP20160510638
申请日
2014-04-28
公开(公告)号
JP2016521244A
公开(公告)日
2016-07-21
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C01B33/02
IPC分类号
C30B1/04 C30B29/06
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
シリコーン層を形成する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019513774A ,2019-05-30
[2]
シリコーン層を形成する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019513766A ,2019-05-30
[3]
シリコーン層を形成する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019513772A ,2019-05-30
[4]
シリコングリカンを調製する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023501585A ,2023-01-18
[5]
基板上に材料を堆積する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023510076A ,2023-03-13
[8]
シリコン−炭素複合体を製造する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019507096A ,2019-03-14
[9]
シリコーンを含有する化粧料[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009004952A1 ,2010-08-26
[10]
コーティングを形成する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025519102A ,2025-06-24