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シリコンを基板上に形成する方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160510638
申请日
:
2014-04-28
公开(公告)号
:
JP2016521244A
公开(公告)日
:
2016-07-21
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B33/02
IPC分类号
:
C30B1/04
C30B29/06
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
シリコーン層を形成する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019513774A
,2019-05-30
[2]
シリコーン層を形成する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019513766A
,2019-05-30
[3]
シリコーン層を形成する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019513772A
,2019-05-30
[4]
シリコングリカンを調製する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023501585A
,2023-01-18
[5]
基板上に材料を堆積する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023510076A
,2023-03-13
[6]
シリコーン溶液及び物品表面にシリコーン化合物の被膜を形成する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7216289B2
,2023-02-01
[7]
シリコン基板上にデバイス品質の窒化ガリウム層を形成する方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2016533645A
,2016-10-27
[8]
シリコン−炭素複合体を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019507096A
,2019-03-14
[9]
シリコーンを含有する化粧料[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009004952A1
,2010-08-26
[10]
コーティングを形成する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025519102A
,2025-06-24
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