シリコーン層を形成する方法[ja]

被引:0
申请号
JP20180553426
申请日
2017-04-20
公开(公告)号
JP2019513772A
公开(公告)日
2019-05-30
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
A61K8/89
IPC分类号
A61K8/92 A61Q5/02 A61Q5/12
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
シリコーン層を形成する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019513774A ,2019-05-30
[2]
シリコーン層を形成する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019513766A ,2019-05-30
[3]
シリコンを基板上に形成する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2016521244A ,2016-07-21
[5]
コーティングを形成する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025519102A ,2025-06-24
[6]
コーティングを形成する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025505728A ,2025-02-28
[7]
シリコーンを含有する化粧料[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009004952A1 ,2010-08-26
[8]
シリコングリカンを調製する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023501585A ,2023-01-18
[10]
毛髪をコンディショニングする方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020503287A ,2020-01-30