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タングステンの化学機械研磨組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160574914
申请日
:
2015-06-25
公开(公告)号
:
JP2017524767A
公开(公告)日
:
2017-08-31
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C09K3/14
IPC分类号
:
B24B37/00
C09G1/02
H01L21/304
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
化学機械研磨組成物、リンス組成物、化学機械研磨方法及びリンス方法[ja]
[P].
KITAMURA HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ENTEGRIS INC
ENTEGRIS INC
KITAMURA HIROSHI
;
MASUDA TAKESHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ENTEGRIS INC
ENTEGRIS INC
MASUDA TAKESHI
;
MATSUMURA YOSHIYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ENTEGRIS INC
ENTEGRIS INC
MATSUMURA YOSHIYUKI
;
NAMIKI AKIHISA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ENTEGRIS INC
ENTEGRIS INC
NAMIKI AKIHISA
;
SAITO TAKESHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ENTEGRIS INC
ENTEGRIS INC
SAITO TAKESHI
.
日本专利
:JP2024164086A
,2024-11-26
[2]
タングステン化学機械研磨スラリー[ja]
[P].
日本专利
:JP2024544194A
,2024-11-28
[3]
化学機械研磨組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021504953A
,2021-02-15
[4]
タングステンCMPのための組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2017514295A
,2017-06-01
[5]
タングステンCMPのための組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2017514927A
,2017-06-08
[6]
タングステンCMP用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2022517044A
,2022-03-03
[7]
銅バリアの化学機械研磨組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2017525796A
,2017-09-07
[8]
化学機械研磨組成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017524770A
,2017-08-31
[9]
化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2021095414A1
,2021-11-25
[10]
化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2021095413A1
,2021-11-25
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