高周波装置及び高周波装置の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20160556106
申请日
2014-10-29
公开(公告)号
JPWO2016067394A1
公开(公告)日
2017-04-27
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01P1/212
IPC分类号
H01P1/20 H01P7/00 H01P11/00 H05K9/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
高周波装置及び高周波装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6184610B2 ,2017-08-23
[2]
高周波装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6095002B2 ,2017-03-15
[3]
高周波回路および高周波回路の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2021053720A1 ,2021-09-30
[4]
高周波回路および高周波回路の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6705612B1 ,2020-06-03
[5]
高周波装置、高周波装置の検査方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6307801B2 ,2018-04-11
[7]
高周波回路、高周波部品及び通信装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007129716A1 ,2009-09-17
[8]
高周波回路、高周波部品、及び通信装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008075691A1 ,2010-04-15
[9]
高周波回路、高周波部品及び通信装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5648901B2 ,2015-01-07
[10]
高周波回路、高周波部品及び通信装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009157357A1 ,2011-12-15