化合物、高分子化合物、レジスト組成物、及びパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20150155343

申请日：

2015-08-05

公开(公告)号：

JP6346129B2

公开(公告)日：

2018-06-20

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C08F220/38

IPC分类号：

G03F7/004 G03F7/038 G03F7/039 G03F7/20

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共 50 条

[1]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物[ja] [P].

日本专利 :JP5622448B2 ,2014-11-12

[2]

化合物、高分子化合物、レジスト組成物、レジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP6243608B2 ,2017-12-06

[3]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6307250B2 ,2018-04-04

[4]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6051013B2 ,2016-12-21

[5]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6286118B2 ,2018-02-28

[6]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6999351B2 ,2022-01-18

[7]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP7292150B2 ,2023-06-16

[8]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物[ja] [P].

EBINA MASANORI ;

KATO HIROKI .

日本专利 :JP2025005802A ,2025-01-17

[9]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物[ja] [P].

FUJIMOTO YUKI .

日本专利 :JP2024175511A ,2024-12-18

[10]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物[ja] [P].

EBINA MASANORI .

日本专利 :JP2025062194A ,2025-04-14

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