シリコン酸化物加工方法[ja]

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申请号
JP20110096714
申请日
2011-04-25
公开(公告)号
JP5673329B2
公开(公告)日
2015-02-18
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/302
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
シリコン酸化物膜の成膜方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6030455B2 ,2016-11-24
[2]
シリコン酸化物膜の成膜方法[ja] [P]. 
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[3]
シリコン酸化物被覆軟磁性粉末[ja] [P]. 
日本专利 :JP7542714B2 ,2024-08-30
[4]
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[5]
混合金属‐シリコン‐酸化物バリア[ja] [P]. 
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[6]
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[7]
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[8]
シリコン酸化物層の直接ボンディング方法[ja] [P]. 
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[9]
シリコン酸化物層の直接ボンディング方法[ja] [P]. 
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[10]
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