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シリコン酸化物加工方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20110096714
申请日
:
2011-04-25
公开(公告)号
:
JP5673329B2
公开(公告)日
:
2015-02-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/302
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
シリコン酸化物膜の成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6030455B2
,2016-11-24
[2]
シリコン酸化物膜の成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5829196B2
,2015-12-09
[3]
シリコン酸化物被覆軟磁性粉末[ja]
[P].
日本专利
:JP7542714B2
,2024-08-30
[4]
混合金属‐シリコン‐酸化物バリア[ja]
[P].
日本专利
:JP6437463B2
,2018-12-12
[5]
混合金属‐シリコン‐酸化物バリア[ja]
[P].
日本专利
:JP2016515166A
,2016-05-26
[6]
シリコン酸化物含有膜の形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5631958B2
,2014-11-26
[7]
シリコン酸化膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005078784A1
,2008-01-17
[8]
シリコン酸化物層の直接ボンディング方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6099657B2
,2017-03-22
[9]
シリコン酸化物層の直接ボンディング方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015501543A
,2015-01-15
[10]
シリコン酸化物の製造装置及び調製方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017535506A
,2017-11-30
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