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イオン注入装置およびイオン注入方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190145267
申请日
:
2019-08-07
公开(公告)号
:
JP7242470B2
公开(公告)日
:
2023-03-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01J37/317
IPC分类号
:
C23C14/48
H01L21/265
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
イオン注入方法およびイオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7602923B2
,2024-12-19
[2]
イオン注入装置およびイオン注入方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7242469B2
,2023-03-20
[3]
イオン注入方法およびイオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5904895B2
,2016-04-20
[4]
イオン注入方法およびイオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6831245B2
,2021-02-17
[5]
イオン注入方法およびイオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5941377B2
,2016-06-29
[6]
イオン注入装置およびイオン注入方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7234066B2
,2023-03-07
[7]
イオン注入装置およびイオン注入方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6785189B2
,2020-11-18
[8]
イオン注入装置およびイオン注入方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6959880B2
,2021-11-05
[9]
イオン注入装置およびイオン注入方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7548839B2
,2024-09-10
[10]
イオン注入装置およびイオン注入方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6785188B2
,2020-11-18
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