イオン照射装置、イオン照射方法[ja]

被引:0
申请号
JP20150539326
申请日
2015-02-27
公开(公告)号
JPWO2015137150A1
公开(公告)日
2017-04-06
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01J37/30
IPC分类号
H01J37/04
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
イオン照射装置、イオン照射方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5877936B1 ,2016-03-08
[2]
イオン照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010029929A1 ,2012-02-02
[3]
イオン照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6166026B2 ,2017-07-19
[4]
負イオン照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7518949B2 ,2024-07-18
[5]
負イオン照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7313929B2 ,2023-07-25
[6]
イオン源、イオンビーム照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6774034B2 ,2020-10-21
[10]
イオンビーム照射方法及びイオンビーム照射装置[ja] [P]. 
UCHIDA YUYA ;
KAI HIROAKI .
日本专利 :JP2024139099A ,2024-10-09