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負イオン照射装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230094106
申请日
:
2023-06-07
公开(公告)号
:
JP7518949B2
公开(公告)日
:
2024-07-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01J27/14
IPC分类号
:
C23C16/50
H01J37/08
H05H1/26
H05H1/50
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
負イオン照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7313929B2
,2023-07-25
[2]
負イオン照射装置、及び負イオン照射装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7412074B2
,2024-01-12
[3]
イオン照射装置、イオン照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5877936B1
,2016-03-08
[4]
イオン照射装置、イオン照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015137150A1
,2017-04-06
[5]
イオン照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010029929A1
,2012-02-02
[6]
イオン照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6166026B2
,2017-07-19
[7]
イオン源、イオンビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6774034B2
,2020-10-21
[8]
イオン照射装置、イオン照射方法、成膜装置、及び成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7120540B2
,2022-08-17
[9]
イオンビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6944652B2
,2021-10-06
[10]
イオンビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5824078B2
,2015-11-25
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