負イオン照射装置[ja]

被引:0
申请号
JP20230094106
申请日
2023-06-07
公开(公告)号
JP7518949B2
公开(公告)日
2024-07-18
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01J27/14
IPC分类号
C23C16/50 H01J37/08 H05H1/26 H05H1/50
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
負イオン照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7313929B2 ,2023-07-25
[3]
イオン照射装置、イオン照射方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5877936B1 ,2016-03-08
[4]
イオン照射装置、イオン照射方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015137150A1 ,2017-04-06
[5]
イオン照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010029929A1 ,2012-02-02
[6]
イオン照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6166026B2 ,2017-07-19
[7]
イオン源、イオンビーム照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6774034B2 ,2020-10-21
[9]
イオンビーム照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6944652B2 ,2021-10-06
[10]
イオンビーム照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5824078B2 ,2015-11-25