パルス光生成装置、光照射装置、光加工装置、光応答測定装置、顕微鏡装置、及びパルス光生成方法[ja]

被引:0
申请号
JP20180508997
申请日
2017-03-15
公开(公告)号
JPWO2017169788A1
公开(公告)日
2019-02-14
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G02F1/01
IPC分类号
B23K26/062 B23K26/064 B23K26/067 G01N21/59 G02B21/06 G02F1/37
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
[2]
光パルス生成装置及び光パルス生成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7441780B2 ,2024-03-01
[3]
パルス光生成装置及びパルス光生成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025152880A ,2025-10-10
[4]
パルス光生成装置及びパルス光生成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6659339B2 ,2020-03-04
[5]
パルス光生成装置及びパルス光生成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7646957B1 ,2025-03-17
[10]
脉冲光生成装置、光照射装置、光加工装置、光响应测定装置、显微镜装置及脉冲光生成方法 [P]. 
伊藤晴康 ;
高桥考二 ;
渡边向阳 .
中国专利 :CN108885360B ,2018-11-23