半導体基板内部の重金属の除去方法[ja]

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申请号
JP20100226909
申请日
2010-10-06
公开(公告)号
JP5691363B2
公开(公告)日
2015-04-01
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/322
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
重金属類の除去方法、除去装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6824867B2 ,2021-02-03
[2]
重金属除去方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6364716B2 ,2018-08-01
[3]
重金属除去方法及び重金属除去装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5720665B2 ,2015-05-20
[4]
重金属除去方法及び重金属除去装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5751393B1 ,2015-07-22
[5]
排水中の重金属イオンの除去方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5640419B2 ,2014-12-17
[6]
重金属除去装置及びその方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6679231B2 ,2020-04-15
[7]
焼却灰中の重金属除去方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2004058423A1 ,2006-04-27
[8]
重金属吸着体の形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7596804B2 ,2024-12-10
[9]
半導体基板の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009014144A1 ,2010-10-07
[10]
重金属の分離方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7137223B2 ,2022-09-14