学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
半導体基板内部の重金属の除去方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20100226909
申请日
:
2010-10-06
公开(公告)号
:
JP5691363B2
公开(公告)日
:
2015-04-01
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/322
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
重金属類の除去方法、除去装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6824867B2
,2021-02-03
[2]
重金属除去方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6364716B2
,2018-08-01
[3]
重金属除去方法及び重金属除去装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5720665B2
,2015-05-20
[4]
重金属除去方法及び重金属除去装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5751393B1
,2015-07-22
[5]
排水中の重金属イオンの除去方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5640419B2
,2014-12-17
[6]
重金属除去装置及びその方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6679231B2
,2020-04-15
[7]
焼却灰中の重金属除去方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004058423A1
,2006-04-27
[8]
重金属吸着体の形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7596804B2
,2024-12-10
[9]
半導体基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009014144A1
,2010-10-07
[10]
重金属の分離方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7137223B2
,2022-09-14
←
1
2
3
4
5
→