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ハードマスク及びその他のパターニング応用のための高密度炭素膜を製造するための方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20220581496
申请日：
2021-06-07
公开(公告)号：
JP2023532335A
公开(公告)日：
2023-07-27
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/471
IPC分类号：
H01L21/306
H01L21/3065
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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