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ハードマスク及びその他のパターニング応用のための高密度ドープ炭素膜を製造するための方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230500017
申请日
:
2021-06-07
公开(公告)号
:
JP2023533711A
公开(公告)日
:
2023-08-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/314
IPC分类号
:
C23C16/27
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ハードマスク及びその他のパターニング応用のための高密度炭素膜を製造するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023532335A
,2023-07-27
[2]
ハードマスク及びその他のパターニング応用のための高密度窒素ドープ炭素膜を製造するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023532883A
,2023-08-01
[3]
創薬のためのPETスクリーニング用分子プローブを製造するためのキット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009057528A1
,2011-03-10
[4]
イメージングのためのビーズの調製のための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019510759A
,2019-04-18
[5]
RASの阻害剤をスクリーニングするための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018533939A
,2018-11-22
[6]
アルツハイマー病を治療するためのエンドソームエンハンサーのための薬物スクリーニングプラットフォーム[ja]
[P].
日本专利
:JP2023531380A
,2023-07-24
[7]
タペンタドールの調製のための新規な方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021527096A
,2021-10-11
[8]
マルチパターン形成用途のための光学的に調整されたハードマスク[ja]
[P].
日本专利
:JP2016525788A
,2016-08-25
[9]
スーパーオキシドの検出のための化合物及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024529917A
,2024-08-14
[10]
炭素ドープケイ素含有膜のための組成物及びそれを使用する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025515832A
,2025-05-20
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