マルチパターン形成用途のための光学的に調整されたハードマスク[ja]

被引：0

申请号：

JP20160512971

申请日：

2014-05-02

公开(公告)号：

JP2016525788A

公开(公告)日：

2016-08-25

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/318

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027 H01L21/3065 H01L21/316

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

ＥＵＶパターニングにおける欠陥低減のための多層ハードマスク[ja] [P].

日本专利 :JP2023516588A ,2023-04-20

[2]

印刷されたウォーターマーク[ja] [P].

日本专利 :JP2018538188A ,2018-12-27

[3]

ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P].

CHUNG JOO YOUNG ;

NAM YOUNHEE ;

JEONG SEULGI .

日本专利 :JP2024134514A ,2024-10-03

[4]

ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P].

CHOI SEIL .

日本专利 :JP2024161913A ,2024-11-20

[5]

ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P].

CHOI SEIL .

日本专利 :JP2024144281A ,2024-10-11

[6]

改良されたポリマー－銅接着のための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023539202A ,2023-09-13

[7]

金属酸化物のハードマスクの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP5913965B2 ,2016-05-11

[8]

ハードマスク及びその他のパターニング応用のための高密度ドープ炭素膜を製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023533711A ,2023-08-04

[9]

タペンタドールの調製のための新規な方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021527096A ,2021-10-11

[10]

コーティングされたマイクロニードルアレイのための亜鉛組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2022159334A ,2022-10-17

← 1 2 3 4 5 →