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局所酸化物を有するゲートオールアラウンドデバイスアーキテクチャ[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190537029
申请日
:
2017-09-19
公开(公告)号
:
JP7023284B2
公开(公告)日
:
2022-02-21
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/336
IPC分类号
:
H01L29/78
H01L29/786
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
局所酸化物を有するゲートオールアラウンドデバイスアーキテクチャ[ja]
[P].
日本专利
:JP2019530255A
,2019-10-17
[2]
ゲートオールアラウンドデバイスの形成[ja]
[P].
日本专利
:JP2023547098A
,2023-11-09
[3]
ハイブリッドウエハ接合技術を用いたゲートオールアラウンドデバイスアーキテクチャ[ja]
[P].
日本专利
:JP2020515083A
,2020-05-21
[4]
追加の酸化物拡散領域を有するセルアーキテクチャ[ja]
[P].
日本专利
:JP2023552060A
,2023-12-14
[5]
共通ゲート・スタックを有するデュアル・チャネルCMOS[ja]
[P].
日本专利
:JP2020520108A
,2020-07-02
[6]
酸化物における正弦波形コンデンサアーキテクチャ[ja]
[P].
日本专利
:JP2020512694A
,2020-04-23
[7]
酸化物における正弦波形コンデンサアーキテクチャ[ja]
[P].
日本专利
:JP7201610B2
,2023-01-10
[8]
低ゲート酸化物トランジスタを用いた広電圧ゲートドライバ[ja]
[P].
日本专利
:JP2024545412A
,2024-12-06
[9]
高温安定アモルファス酸化物ベースの環境バリアを有するコーティング[ja]
[P].
日本专利
:JP2025532980A
,2025-10-03
[10]
湿気バリアを有するスペーサー[ja]
[P].
日本专利
:JP2024529530A
,2024-08-06
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