二次イオン質量分析装置[ja]

被引:0
申请号
JP20130186435
申请日
2013-09-09
公开(公告)号
JP6079515B2
公开(公告)日
2017-02-15
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G01N27/62
IPC分类号
G01N23/225
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[3]
二次イオン質量分析装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7128044B2 ,2022-08-30
[5]
二次イオン質量分析方法及び、質量分析装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022137164A ,2022-09-21
[6]
二次イオン質量分析方法及び、質量分析装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7290778B2 ,2023-06-13
[8]
質量分析装置、質量分析方法、及びイオン源[ja] [P]. 
日本专利 :JP6043568B2 ,2016-12-14
[9]
イオン源及び質量分析装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7505611B2 ,2024-06-25
[10]