中空シリカ粒子の製造方法[ja]

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申请号
JP20190562038
申请日
2018-12-25
公开(公告)号
JPWO2019131658A1
公开(公告)日
2020-12-17
发明(设计)人
申请人
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IPC主分类号
C01B33/18
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
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共 50 条
[1]
中空シリカ粒子の製造方法[ja] [P]. 
KAMIYA HIROYUKI ;
KIM HYUNJI ;
MATSUBARA TOSHIYA .
日本专利 :JP2022179707A ,2022-12-02
[2]
中空シリカ粒子の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7320692B1 ,2023-08-03
[3]
シリカ粒子、シリカ粒子の製造方法、シリカゾル及び吸着剤[ja] [P]. 
ADACHI KOICHI ;
SHIMADA YUTA ;
NAGINO YUKI .
日本专利 :JP2024126073A ,2024-09-20
[4]
[5]
コアシェル型多孔質シリカ粒子の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017141821A1 ,2019-01-17
[6]
コアシェル型多孔質シリカ粒子の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019240294A1 ,2021-07-08
[7]
多孔質シリカの製造方法および多孔質シリカ[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011108649A1 ,2013-06-27
[8]
多孔質シリカの製造方法および製造装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007020878A1 ,2009-02-26
[9]
シリカエアロゲルの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005110919A1 ,2008-03-21
[10]
シリカエアロゲルの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015177954A1 ,2017-04-20