表面に有機基を有する中空シリカ粒子の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230117439

申请日：

2023-07-19

公开(公告)号：

JP2025014678A

公开(公告)日：

2025-01-30

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C01B33/18

IPC分类号：

C08G77/06

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法律状态信息

共 50 条

[1]

中空シリカ粒子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7320692B1 ,2023-08-03

[2]

中空シリカ粒子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019131658A1 ,2020-12-17

[3]

中空シリカ粒子の製造方法[ja] [P].

KAMIYA HIROYUKI ;

KIM HYUNJI ;

MATSUBARA TOSHIYA .

日本专利 :JP2022179707A ,2022-12-02

[4]

有機粒子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006121017A1 ,2008-12-18

[5]

シリカ粒子、シリカ粒子の製造方法、シリカゾル及び吸着剤[ja] [P].

ADACHI KOICHI ;

SHIMADA YUTA ;

NAGINO YUKI .

日本专利 :JP2024126073A ,2024-09-20

[6]

有機物微粒子の製造方法及び有機物微粒子の改質方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016098785A1 ,2017-09-21

[7]

有機物微粒子の製造方法及び有機物微粒子の改質方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022134131A ,2022-09-14

[8]

有機薄膜製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004091810A1 ,2006-07-06

[9]

有機薄膜製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016063463A1 ,2017-06-08

[10]

多孔質の球状シリカゲル粒子を生産する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025508226A ,2025-03-21

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