イオン源および当該イオン源を備えたイオンビーム照射装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20130040562

申请日：

2013-03-01

公开(公告)号：

JP6083260B2

公开(公告)日：

2017-02-22

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01J27/16

IPC分类号：

H01J37/08 H01J37/317

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法律状态信息

共 50 条

[1]

イオン源、イオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6774034B2 ,2020-10-21

[2]

イオン源、イオンビーム照射装置及びイオン源の運転方法[ja] [P].

日本专利 :JP6642612B2 ,2020-02-05

[3]

イオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6638479B2 ,2020-01-29

[4]

イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法[ja] [P].

ONODA MASATOSHI ;

GOTO RYOSUKE ;

NAGAO YUICHI ;

UI TOSHIMASA .

日本专利 :JP2024048246A ,2024-04-08

[5]

イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP7534722B2 ,2024-08-15

[6]

イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP6503859B2 ,2019-04-24

[7]

イオンビーム照射装置、イオン源の着脱方法[ja] [P].

日本专利 :JP6418262B2 ,2018-11-07

[8]

イオンビーム照射方法及びイオンビーム照射装置[ja] [P].

UCHIDA YUYA ;

KAI HIROAKI .

日本专利 :JP2024139099A ,2024-10-09

[9]

イオン加速方法、イオン加速装置、及び、イオンビーム照射装置、医療用イオンビーム照射装置、核破砕用イオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP5988025B2 ,2016-09-07

[10]

イオン照射装置、イオン照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP5877936B1 ,2016-03-08

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