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ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150553423
申请日
:
2014-11-07
公开(公告)号
:
JPWO2015093177A1
公开(公告)日
:
2017-03-16
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07C225/14
IPC分类号
:
C23C16/18
H01L21/285
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6429352B1
,2018-11-28
[2]
ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6509128B2
,2019-05-08
[3]
ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019097768A1
,2019-11-21
[4]
ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7565270B2
,2024-10-10
[5]
アルミニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6184030B2
,2017-08-23
[6]
アルミニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014103588A1
,2017-01-12
[7]
化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7730762B2
,2025-08-28
[8]
化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7075891B2
,2022-05-26
[9]
化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6811514B2
,2021-01-13
[10]
バナジウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6735163B2
,2020-08-05
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