基板処理装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20230017230

申请日：

2023-02-08

公开(公告)号：

JP2023054827A

公开(公告)日：

2023-04-14

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/304

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共 50 条

[1]

基板処理装置[ja] [P].

YAMAGATA MOTOKI ;

SONE HIROSHI ;

FUKUDA NAOYA .

日本专利 :JP2025110918A ,2025-07-30

[2]

基板処理装置[ja] [P].

FUKUDA NAOYA ;

YAMAGATA MOTOKI ;

SONE HIROSHI .

日本专利 :JP2025086688A ,2025-06-09

[3]

熱処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP3220936U ,2019-04-11

[4]

肌処理装置[ja] [P].

MAEDA KAZUNORI .

日本专利 :JP2025017310A ,2025-02-05

[5]

基板洗浄部材、基板処理装置、及び、基板洗浄方法[ja] [P].

KURUSU KENTO ;

KUBO AKIHIRO ;

NAKAJIMA NOBORU ;

KASAI YASUNARI .

日本专利 :JP2024064958A ,2024-05-14

[6]

流体処理方法及び流体処理装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003064002A1 ,2005-05-26

[7]

情報処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP7082308B1 ,2022-06-08

[8]

磁気処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP7307997B1 ,2023-07-13

[9]

プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP3167975U ,2011-05-26

[10]

多段式水浄化処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP3248940U ,2024-10-30

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