２−イソプロペニル−５−メチル−４−ヘキセン−１−イル３−メチル−２−ブテノアートの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20080550047

申请日：

2007-03-28

公开(公告)号：

JPWO2008075468A1

公开(公告)日：

2010-04-08

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C67/14

IPC分类号：

C07C69/533

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[1]

２−イソプロペニル−５−メチル−４−ヘキセン−１−イル３−メチル−２−ブテノアートの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006109570A1 ,2008-10-30

[2]

（５−フルオロ−２−メチル−３−キノリン−２−イルメチル−インドール−１−イル）−酢酸エステルの製造のための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015500325A ,2015-01-05

[3]

４−イソプロピル−３−メチルフェノールの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015199202A1 ,2017-06-08

[4]

４−アルカノイルオキシ−２−メチルブタン酸の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015520177A ,2015-07-16

[5]

４−メチル−１，３−チアゾール−２−イルスルホニルハライドの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004022549A1 ,2005-12-22

[6]

１，３−チアゾール−５−イルメチル［（２Ｒ，５Ｒ）−５−｛［（２Ｓ）−２−［（メチル｛［２−（プロパン−２−イル）−１，３−チアゾール−４−イル］メチル｝カルバモイル）アミノ］−４−（モルホリン−４−イル）ブタノイル］アミノ｝−１，６−ジフェニルヘキサン−２−イル］カルバメートまたはコビシスタットの結晶形態[ja] [P].

日本专利 :JP2019508393A ,2019-03-28

[7]

（＋）−２−［１−（３−エトキシ−４−メトキシ−フェニル）−２−メタンスルホニル−エチル］−４−アセチルアミノイソインドリン−１，３−ジオンの製剤[ja] [P].

日本专利 :JP2015506356A ,2015-03-02

[8]

２−（ハロゲノメチル）−３−メチルニトロベンゼンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015129592A1 ,2017-03-30

[9]

ＯＧＡ阻害剤としてのＮ−［４−フルオロ−５−［［（２Ｓ，４Ｓ）−２−メチル−４−［（５−メチル−１，２，４−オキサジアゾール−３−イル）メトキシ］−１−ピペリジル］メチル］チアゾール−２−イル］アセトアミド[ja] [P].

日本专利 :JP2020504142A ,2020-02-06

[10]

Ｎ−［５−（アミノスルホニル）−４−メチル−１，３−チアゾール−２−イル］−Ｎ−メチル−２−［４−（２−ピリジニル）フェニル］アセトアミドメシレート一水和物[ja] [P].

日本专利 :JP2014528948A ,2014-10-30

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