含窒素化合物を含む排ガスの処理方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20120098673

申请日：

2012-04-24

公开(公告)号：

JP5910286B2

公开(公告)日：

2016-04-27

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IPC主分类号：

B01D53/54

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共 50 条

[1]

有機態窒素化合物を含む含窒素化合物含有水の処理装置、および、有機態窒素化合物を含む含窒素化合物含有水の処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP6441066B2 ,2018-12-19

[2]

有機含窒素化合物含有ガスの処理装置、有機含窒素化合物含有ガスの処理剤及び成膜装置[ja] [P].

日本专利 :JP6123454B2 ,2017-05-10

[3]

有害化合物を含む被処理物の処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP5908767B2 ,2016-04-26

[4]

含窒素化合物、及び含窒素化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6001994B2 ,2016-10-05

[5]

含窒素化合物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004016587A1 ,2005-12-02

[6]

含窒素化合物及び含窒素化合物を含む有機電界発光素子[ja] [P].

日本专利 :JP7078961B2 ,2022-06-01

[7]

含窒素芳香環を有する化合物の製造方法および含窒素芳香環を含む化合物[ja] [P].

YAMASHITA KAZUYA ;

YAMAMOTO TAKASHI .

日本专利 :JP2025025248A ,2025-02-21

[8]

含窒素環化合物の製造方法及び含窒素環化合物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013121879A1 ,2015-05-11

[9]

含窒素炭素化合物[ja] [P].

日本专利 :JP5865893B2 ,2016-02-17

[10]

含窒素炭素化合物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012121031A1 ,2014-07-17

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