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局所化されたエッチング用途のための半導体材料を保護するための改良されたマスク[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200504705
申请日
:
2018-07-31
公开(公告)号
:
JP2020529728A
公开(公告)日
:
2020-10-08
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/314
IPC分类号
:
G03F7/004
G03F7/20
G03F7/36
H01L21/306
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
局所化されたエッチング用途のための半導体材料を保護するための改良されたマスク[ja]
[P].
日本专利
:JP7191930B2
,2022-12-19
[2]
凍結保存された生体材料を保護するための衝撃吸収容器[ja]
[P].
日本专利
:JP7568741B2
,2024-10-16
[3]
凍結保存された生体材料を保護するための衝撃吸収装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023521377A
,2023-05-24
[4]
凍結保存された生体材料を保護するための衝撃吸収容器[ja]
[P].
日本专利
:JP2023521138A
,2023-05-23
[5]
凍結保存された生体材料を保護するための衝撃吸収装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025163303A
,2025-10-28
[6]
凍結保存された生体材料を保護するための衝撃吸収装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7736316B2
,2025-09-09
[7]
ESD保護のための垂直スイッチング構成[ja]
[P].
日本专利
:JP2014535157A
,2014-12-25
[8]
コーティングされた半導体ウエハを製造するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2019519933A
,2019-07-11
[9]
エッチングされたIII-V族材料を基本とした層上に誘電体材料を基本とした層を形成するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025515386A
,2025-05-14
[10]
アンチモンでドープされた二酸化チタンを有する炭化水素の酸化のための触媒材料[ja]
[P].
日本专利
:JP2020508208A
,2020-03-19
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