学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
高分子化合物、感放射線性組成物及びパターン形成方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160091799
申请日
:
2016-04-28
公开(公告)号
:
JP6951833B2
公开(公告)日
:
2021-10-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C08L61/06
IPC分类号
:
C08G8/28
G03F7/038
G03F7/20
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子化合物、感放射線性組成物及びパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6850079B2
,2021-03-31
[2]
化合物、高分子化合物、レジスト組成物、及びパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6346129B2
,2018-06-20
[3]
水性組成物及び高分子化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6871399B2
,2021-05-12
[4]
水性組成物及び高分子化合物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019065604A1
,2020-05-28
[5]
高分子化合物及び該高分子化合物を含有する組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP5860235B2
,2016-02-16
[6]
化合物、高分子化合物及び高分子化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7320821B2
,2023-08-04
[7]
高分子化合物的制造方法及高分子化合物
[P].
土屋征司
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
土屋征司
;
前田晋一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
前田晋一
.
中国专利
:CN104487484A
,2015-04-01
[8]
高分子化合物及び高分子化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016140243A1
,2017-12-07
[9]
化合物及び高分子化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6539710B2
,2019-07-03
[10]
高分子化合物及び高分子化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6797414B2
,2020-12-09
←
1
2
3
4
5
→