二次元放射線検出器の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20130151451
申请日
2013-07-22
公开(公告)号
JP6163936B2
公开(公告)日
2017-07-19
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L27/146
IPC分类号
G01T1/24 H01L27/144 H01L31/08
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
二次元画像検出器[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013057941A1 ,2015-04-02
[2]
二次元画像検出器[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012014251A1 ,2013-09-09
[3]
二次元画像検出器[ja] [P]. 
日本专利 :JP5621939B2 ,2014-11-12
[4]
二次元画像検出器及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013031128A1 ,2015-03-23
[5]
二次元アレイX線検出器の検査方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011111590A1 ,2013-06-27
[6]
二次元画像検出装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006046434A1 ,2008-05-22
[9]
六方晶構造の二次元膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020506150A ,2020-02-27
[10]
六方晶構造の二次元膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7341059B2 ,2023-09-08