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フィルム状積層体、および、高分子薄膜の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190529655
申请日
:
2018-08-17
公开(公告)号
:
JP6586545B2
公开(公告)日
:
2019-10-02
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C08J5/18
IPC分类号
:
B29C41/12
B32B27/00
C08F232/04
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子薄膜、フィルム状積層体、および、高分子薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019039391A1
,2019-11-07
[2]
高分子薄膜、フィルム状積層体、および、高分子薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6586546B2
,2019-10-02
[3]
フィルム状積層体、および、高分子薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019039392A1
,2019-11-07
[4]
高分子薄膜積層体の製造方法および高分子薄膜分散体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6840361B2
,2021-03-10
[5]
高分子フィルムおよび高分子フィルムの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017537175A
,2017-12-14
[6]
高分子フィルムおよび高分子フィルムの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6368858B2
,2018-08-01
[7]
真空成膜装置、および高分子フィルム積層体の製造方法、ならびに高分子フィルム積層体[ja]
[P].
日本专利
:JP5636636B2
,2014-12-10
[8]
高分子電解質積層フィルムの製造方法、および高分子電解質積層フィルムの製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5967006B2
,2016-08-10
[9]
高分子薄膜、高分子積層膜の製造方法、その製造方法で製造された高分子薄膜、および高分子積層膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012070658A1
,2014-05-19
[10]
耐熱高分子フィルム積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7287061B2
,2023-06-06
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