ビタミンＤの形成のために最適化された日焼け止め製剤[ja]

被引：0

申请号：

JP20170503845

申请日：

2015-07-24

公开(公告)号：

JP2017521463A

公开(公告)日：

2017-08-03

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

A61K8/49

IPC分类号：

A61K8/27 A61K8/29 A61K8/35 A61K8/37 A61K8/40 A61K8/46 A61K8/58 A61K8/89 A61Q17/04

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

ＭＷＣＮＴ製造のための改善された触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2024541516A ,2024-11-08

[2]

乳化型日焼け止め化粧料および乳化型日焼け止め化粧料の製造方法[ja] [P].

NAGATANI NOBORU ;

NAKAMURA SHOHEI ;

HATA MOE .

日本专利 :JP2025077995A ,2025-05-19

[3]

炭化水素の脱水素化のための改良された触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2017521231A ,2017-08-03

[4]

炭化水素の脱水素化のための改良された触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2017517388A ,2017-06-29

[5]

改善されたクメン作製のための触媒、ならびにその作製および使用の方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015513460A ,2015-05-14

[6]

マルチパターン形成用途のための光学的に調整されたハードマスク[ja] [P].

日本专利 :JP2016525788A ,2016-08-25

[7]

エタノールのブタジエンへの転換のためのシリカに担持されたタンタル系触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2018521842A ,2018-08-09

[8]

プレーナ型ＳｉＣＭＯＳＦＥＴのための最適化されたレトログレードチャネル注入[ja] [P].

日本专利 :JP2022544750A ,2022-10-21

[9]

改善された電池性能のための安定化された高ニッケルＮＭＣカソード材料[ja] [P].

日本专利 :JP2022537889A ,2022-08-31

[10]

太陽電池製造のための改善されたエッチングプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2017529682A ,2017-10-05

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