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排ガス後処理のための装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210576955
申请日
:
2020-06-24
公开(公告)号
:
JP2022537838A
公开(公告)日
:
2022-08-30
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
F01N3/26
IPC分类号
:
F01N3/20
F01N3/28
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
排ガスを後処理するための装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022538140A
,2022-08-31
[2]
排気ガスを処理するための排気ガス処理システム及びその使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2022525278A
,2022-05-12
[3]
排ガス後処理装置および排ガス後処理装置を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023504921A
,2023-02-07
[4]
排気ガス浄化のための触媒[ja]
[P].
日本专利
:JP2018518354A
,2018-07-12
[5]
排ガスの浄化および酸化触媒の再生のための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015534501A
,2015-12-03
[6]
めっき処理されたガラス基材の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6620277B1
,2019-12-18
[7]
排ガスの浄化装置及び排ガスの浄化触媒[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006103781A1
,2008-09-04
[8]
排気ガス処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2017524514A
,2017-08-31
[9]
排ガス中の酸化窒素の還元のためのバナジウム含有触媒及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016530997A
,2016-10-06
[10]
ガス流を脱硫するための方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2018516744A
,2018-06-28
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