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発現制御化合物及び発現制御方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210014213
申请日
:
2021-02-01
公开(公告)号
:
JP2022117618A
公开(公告)日
:
2022-08-12
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
A01N43/16
IPC分类号
:
A01H3/04
A01N27/00
A01N31/02
A01N35/06
A01P21/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高度発酵制御[ja]
[P].
日本专利
:JP2015508658A
,2015-03-23
[2]
構築物及び免疫阻害化合物の共発現[ja]
[P].
日本专利
:JP2024518463A
,2024-05-01
[3]
揮発性有機化合物処理装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5835662B2
,2015-12-24
[4]
酸拡散制御剤及び化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6882703B2
,2021-06-02
[5]
化合物及び酸拡散制御剤[ja]
[P].
日本专利
:JP7759992B2
,2025-10-24
[6]
化合物、及び発光化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6965083B2
,2021-11-10
[7]
電気加熱発煙システム及び揮発性化合物の放出制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022527926A
,2022-06-07
[8]
MECP2発現を低減する化合物及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025532127A
,2025-09-29
[9]
MECP2発現を低減する化合物及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025532128A
,2025-09-29
[10]
SNCA発現を低下させるための化合物及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7646616B2
,2025-03-17
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