磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20150560124
申请日
2015-09-18
公开(公告)号
JPWO2016047578A1
公开(公告)日
2017-04-27
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/34
IPC分类号
C22C5/04 C22C30/02 C22C32/00 C22C38/00 G11B5/64 G11B5/851
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[4]
磁気記録膜用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013190943A1 ,2016-05-26
[5]
磁気記録膜用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012133166A1 ,2014-07-28
[7]
磁気記録媒体用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020027235A1 ,2021-08-12
[8]
磁気記録媒体用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018083951A1 ,2019-10-17