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磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150560124
申请日
:
2015-09-18
公开(公告)号
:
JPWO2016047578A1
公开(公告)日
:
2017-04-27
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C22C5/04
C22C30/02
C22C32/00
C22C38/00
G11B5/64
G11B5/851
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016047236A1
,2017-05-25
[2]
磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015076190A1
,2017-03-16
[3]
磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014141789A1
,2017-02-16
[4]
磁気記録膜用スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013190943A1
,2016-05-26
[5]
磁気記録膜用スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012133166A1
,2014-07-28
[6]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019220675A1
,2021-07-15
[7]
磁気記録媒体用スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020027235A1
,2021-08-12
[8]
磁気記録媒体用スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018083951A1
,2019-10-17
[9]
磁気記録膜用スパッタリングターゲット及びその製造に用いる炭素原料[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014175392A1
,2017-02-23
[10]
磁気記録媒体用スパッタリングターゲット及び磁性薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6881643B2
,2021-06-02
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