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誘電体基板上の誘電体材料の選択的な縦方向成長の方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180076934
申请日
:
2018-04-12
公开(公告)号
:
JP7018812B2
公开(公告)日
:
2022-02-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/316
IPC分类号
:
C23C16/04
C23C16/42
H01L21/768
H01L23/532
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
誘電体材料の堆積方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7176106B2
,2022-11-21
[2]
誘電体材料の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016157954A1
,2018-02-01
[3]
誘電体材料の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7191429B1
,2022-12-19
[4]
誘電体材料の堆積方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022500867A
,2022-01-04
[5]
誘電体材料の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6481755B2
,2019-03-13
[6]
誘電体材料の製造方法[ja]
[P].
TACHIKAWA TAKASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV KOBE
UNIV KOBE
TACHIKAWA TAKASHI
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
KUMABE YOSHITAKA
.
日本专利
:JP2024062834A
,2024-05-10
[7]
誘電体上に誘電体を選択的に堆積させる方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024505506A
,2024-02-06
[8]
強誘電体薄膜、強誘電体薄膜の製造方法、圧電体素子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012063642A1
,2014-05-12
[9]
誘電体材料の充填及び処理の方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023521840A
,2023-05-25
[10]
誘電体材料の充填及び処理の方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7541108B2
,2024-08-27
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