学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
配線基板とその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20130527798
申请日
:
2013-01-11
公开(公告)号
:
JPWO2013108599A1
公开(公告)日
:
2015-05-11
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H05K3/46
IPC分类号
:
B22F1/107
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
配線基板とその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013099204A1
,2015-04-30
[2]
配線基板とその作製方法[ja]
[P].
KUDO HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
DAINIPPON PRINTING CO LTD
DAINIPPON PRINTING CO LTD
KUDO HIROSHI
.
日本专利
:JP2023159219A
,2023-10-31
[3]
回路配線基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009101874A1
,2011-06-09
[4]
配線基板、および、配線基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014045721A1
,2016-08-18
[5]
抵抗形成基板とその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013118455A1
,2015-05-11
[6]
回路基板とその製造方法[ja]
[P].
SANO KENJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ELEPHANTECH INC
ELEPHANTECH INC
SANO KENJI
;
NOBORIGUCHI SHORI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ELEPHANTECH INC
ELEPHANTECH INC
NOBORIGUCHI SHORI
;
SUGA ATSUSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ELEPHANTECH INC
ELEPHANTECH INC
SUGA ATSUSHI
;
NAKAMURA JUNYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ELEPHANTECH INC
ELEPHANTECH INC
NAKAMURA JUNYA
;
WATANABE YUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ELEPHANTECH INC
ELEPHANTECH INC
WATANABE YUYA
;
SHIMIZU SHINYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ELEPHANTECH INC
ELEPHANTECH INC
SHIMIZU SHINYA
.
日本专利
:JP2024089576A
,2024-07-03
[7]
多層配線基板およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012111711A1
,2014-07-07
[8]
金属配線付き基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007037553A1
,2009-04-16
[9]
多層配線基板、及び、多層配線基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019003729A1
,2020-02-06
[10]
導電性基板とその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011065271A1
,2013-04-11
←
1
2
3
4
5
→