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半導体素子およびその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160573240
申请日
:
2016-01-06
公开(公告)号
:
JPWO2016125520A1
公开(公告)日
:
2017-09-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01C7/02
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体素子およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6378383B1
,2018-08-22
[2]
半導体素子およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020080124A1
,2021-09-30
[3]
半導体素子およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006109760A1
,2008-11-20
[4]
半導体素子およびその製造方法[ja]
[P].
MATSUMOTO RYOSUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SONY SEMICONDUCTOR SOLUTIONS CORP
SONY SEMICONDUCTOR SOLUTIONS CORP
MATSUMOTO RYOSUKE
.
日本专利
:JP2024012345A
,2024-01-30
[5]
光半導体素子およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002059982A1
,2004-05-27
[6]
基板、基板の製造方法、半導体素子および半導体素子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011021715A1
,2013-01-24
[7]
半導体素子及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004112148A1
,2006-07-20
[8]
半導体光素子、および半導体光素子の製造方法[ja]
[P].
TANAKA HAJIME
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
TANAKA HAJIME
.
日本专利
:JP2025036957A
,2025-03-17
[9]
半導体光素子、および半導体光素子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025150252A
,2025-10-09
[10]
半導体光素子、および半導体光素子の製造方法[ja]
[P].
HIRATANI TAKUO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
HIRATANI TAKUO
;
KIKUCHI TAKEHIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
KIKUCHI TAKEHIKO
;
INOUE NAOKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
INOUE NAOKO
.
日本专利
:JP2025121155A
,2025-08-19
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