化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210502914

申请日：

2020-10-12

公开(公告)号：

JP6892034B1

公开(公告)日：

2021-06-18

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/304

IPC分类号：

B24B37/00 C01B33/18 C09G1/02 C09K3/14

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共 50 条

[1]

化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2021095414A1 ,2021-11-25

[2]

化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2021095413A1 ,2021-11-25

[3]

化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JP6892035B1 ,2021-06-18

[4]

化学機械研磨用組成物及び研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JP7468811B1 ,2024-04-16

[5]

化学機械研磨組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2021504953A ,2021-02-15

[6]

砥粒の製造方法、化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JP6958774B1 ,2021-11-02

[7]

化学機械研磨用スラリーおよび化学機械研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013180079A1 ,2016-01-21

[8]

化学機械研磨組成物、リンス組成物、化学機械研磨方法及びリンス方法[ja] [P].

KITAMURA HIROSHI ;

MASUDA TAKESHI ;

MATSUMURA YOSHIYUKI ;

NAMIKI AKIHISA ;

SAITO TAKESHI .

日本专利 :JP2024164086A ,2024-11-26

[9]

化学機械研磨用エロージョン防止剤、化学機械研磨用スラリーおよび化学機械研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012161202A1 ,2014-07-31

[10]

化学機械研磨パッドおよび化学機械研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009072405A1 ,2011-04-21

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