金属酸化物含有膜形成用組成物及びパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20130001251

申请日：

2013-01-08

公开(公告)号：

JP5756134B2

公开(公告)日：

2015-07-29

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/11

IPC分类号：

H01L21/027

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法律状态信息

共 50 条

[1]

金属酸化物膜形成用組成物及び金属酸化物膜[ja] [P].

日本专利 :JP6383983B2 ,2018-09-05

[2]

金属酸化物膜形成用組成物及び金属酸化物膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014203951A1 ,2017-02-23

[3]

感放射線性組成物、パターン形成方法及び金属酸化物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018123537A1 ,2019-10-31

[4]

金属酸化物膜形成用組成物[ja] [P].

日本专利 :JP5776400B2 ,2015-09-09

[5]

金属酸化物膜形成用組成物[ja] [P].

NODA KUNIHIRO ;

YAMAUCHI KENICHI ;

SASAKI TOMOAKI ;

TAKAHASHI MICHIHITO ;

KOBAYASHI TAKANORI .

日本专利 :JP2024002088A ,2024-01-11

[6]

金属酸化物膜形成用組成物[ja] [P].

NODA KUNIHIRO ;

YAMAUCHI KENICHI ;

TAKAHASHI MICHIHITO ;

HARAGUCHI SAEKO .

日本专利 :JP2024002089A ,2024-01-11

[7]

金属酸化物膜形成性組成物、金属酸化物膜形成性組成物の製造方法、及び金属酸化物膜形成性組成物を用いた金属酸化物膜の製造方法[ja] [P].

YAMAUCHI KENICHI ;

NODA KUNIHIRO ;

TAKAHASHI MICHIHITO ;

HARAGUCHI SAEKO ;

YAMANOUCHI ATSUSHI ;

SHIODA MASARU .

日本专利 :JP2024002084A ,2024-01-11

[8]

金属酸化物膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP6716129B2 ,2020-07-01

[9]

金属酸化物薄膜形成装置及び金属酸化物薄膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019098289A1 ,2020-11-19

[10]

金属酸化物薄膜形成装置及び金属酸化物薄膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP6924515B2 ,2021-08-25

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