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金属酸化物膜形成性組成物、金属酸化物膜形成性組成物の製造方法、及び金属酸化物膜形成性組成物を用いた金属酸化物膜の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220101066
申请日
:
2022-06-23
公开(公告)号
:
JP2024002084A
公开(公告)日
:
2024-01-11
发明(设计)人
:
YAMAUCHI KENICHI
NODA KUNIHIRO
TAKAHASHI MICHIHITO
HARAGUCHI SAEKO
YAMANOUCHI ATSUSHI
SHIODA MASARU
申请人
:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/316
IPC分类号
:
C09D1/04
C09D7/40
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
金属酸化物膜形成性組成物、及びこれを用いた金属酸化物膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022131493A
,2022-09-07
[2]
金属酸化物膜形成用組成物及び金属酸化物膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014203951A1
,2017-02-23
[3]
金属酸化物膜形成用組成物及び金属酸化物膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6383983B2
,2018-09-05
[4]
金属酸化物膜形成用組成物[ja]
[P].
NODA KUNIHIRO
论文数:
0
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0
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0
机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
NODA KUNIHIRO
;
YAMAUCHI KENICHI
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机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
YAMAUCHI KENICHI
;
TAKAHASHI MICHIHITO
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机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TAKAHASHI MICHIHITO
;
HARAGUCHI SAEKO
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0
机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
HARAGUCHI SAEKO
.
日本专利
:JP2024002089A
,2024-01-11
[5]
金属酸化物膜形成用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP5776400B2
,2015-09-09
[6]
金属酸化物膜形成用組成物[ja]
[P].
NODA KUNIHIRO
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0
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0
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0
机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
NODA KUNIHIRO
;
YAMAUCHI KENICHI
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机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
YAMAUCHI KENICHI
;
SASAKI TOMOAKI
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机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
SASAKI TOMOAKI
;
TAKAHASHI MICHIHITO
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机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TAKAHASHI MICHIHITO
;
KOBAYASHI TAKANORI
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0
机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
KOBAYASHI TAKANORI
.
日本专利
:JP2024002088A
,2024-01-11
[7]
金属酸化物膜および金属酸化物膜の成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023036656A
,2023-03-14
[8]
金属酸化物の成膜方法[ja]
[P].
YAMAZAKI SHUNPEI
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0
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机构:
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
YAMAZAKI SHUNPEI
;
KAKEHATA TETSUYA
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机构:
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
KAKEHATA TETSUYA
;
KAWAKAMI SACHIKO
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机构:
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
KAWAKAMI SACHIKO
;
ISAKA FUMITO
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机构:
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
ISAKA FUMITO
;
EGI YUJI
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机构:
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
EGI YUJI
.
日本专利
:JP2024012148A
,2024-01-25
[9]
金属酸化物の成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7678789B2
,2025-05-16
[10]
金属酸化物粒子、組成物および金属酸化物粒子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6251478B2
,2017-12-20
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