変位測定装置、変位測定方法およびフォトリソグラフィー装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20210563595

申请日：

2020-04-24

公开(公告)号：

JP2022530149A

公开(公告)日：

2022-06-27

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G01B11/00

IPC分类号：

G03F7/20

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法律状态信息

共 50 条

[1]

変位測定装置、変位測定方法およびフォトリソグラフィー装置[ja] [P].

日本专利 :JP7383048B2 ,2023-11-17

[2]

変位測定装置および変位測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP6609411B2 ,2019-11-20

[3]

変位測定装置および変位測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP7493794B2 ,2024-06-03

[4]

変位測定方法および変位測定装置[ja] [P].

MIYATA KAZUYA ;

SHIMIZU TETSUO ;

WAKITA HIROYUKI ;

ANDO MITSUHIRO .

日本专利 :JP2024036747A ,2024-03-18

[5]

変位測定装置および変位測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP6570035B2 ,2019-09-04

[6]

変位測定装置、変位測定方法、およびプログラム[ja] [P].

日本专利 :JP7156529B2 ,2022-10-19

[7]

変位量測定装置、変位量測定方法および変位量測定プログラム[ja] [P].

日本专利 :JP6958494B2 ,2021-11-02

[8]

角度変位測定装置および角度変位測定方法[ja] [P].

MATSUKUMA HIRAKU ;

KO ISAMU ;

SHIMIZU HIROKI ;

SHIN DONG WOOK ;

SATO RYO .

日本专利 :JP2023164100A ,2023-11-10

[9]

変位測定装置及び変位測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP7493773B2 ,2024-06-03

[10]

変位測定装置及び変位測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP6193644B2 ,2017-09-06

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