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パルスパターン生成装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180087750
申请日
:
2018-04-27
公开(公告)号
:
JP6939693B2
公开(公告)日
:
2021-09-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H02M7/48
IPC分类号
:
H02P27/08
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
パルスパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6962267B2
,2021-11-05
[2]
パルスパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7004980B2
,2022-01-21
[3]
任意光パルスパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023530903A
,2023-07-20
[4]
任意光パルスパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7785024B2
,2025-12-12
[5]
スペックルパターン生成装置[ja]
[P].
KAN TAKASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KDDI CORP
KDDI CORP
KAN TAKASHI
;
ISHIMURA SHOTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KDDI CORP
KDDI CORP
ISHIMURA SHOTA
.
日本专利
:JP2025017725A
,2025-02-06
[6]
パターン生成装置、パターン生成方法およびパターン形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7440239B2
,2024-02-28
[7]
パターン生成装置、パターン生成方法、印刷物[ja]
[P].
日本专利
:JP5724938B2
,2015-05-27
[8]
テストパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6923569B2
,2021-08-18
[9]
光パターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6508425B1
,2019-05-08
[10]
光パターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6591124B2
,2019-10-16
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