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スペックルパターン生成装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230120911
申请日
:
2023-07-25
公开(公告)号
:
JP2025017725A
公开(公告)日
:
2025-02-06
发明(设计)人
:
KAN TAKASHI
ISHIMURA SHOTA
申请人
:
KDDI CORP
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G02F1/01
IPC分类号
:
G02B27/48
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
パルスパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6939693B2
,2021-09-22
[2]
パルスパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6962267B2
,2021-11-05
[3]
パルスパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7004980B2
,2022-01-21
[4]
擬似スペックルパターン生成装置、擬似スペックルパターン生成方法、観察装置および観察方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6739392B2
,2020-08-12
[5]
擬似スペックルパターン生成装置、擬似スペックルパターン生成方法、観察装置および観察方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6739391B2
,2020-08-12
[6]
任意光パルスパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023530903A
,2023-07-20
[7]
任意光パルスパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7785024B2
,2025-12-12
[8]
マスクパターン生成方法、マスクパターン生成装置、及び、マスクパターン生成プログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP6205831B2
,2017-10-04
[9]
マスタークロック生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7706682B1
,2025-07-11
[10]
テストパターン生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6923569B2
,2021-08-18
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