高純度シリコンの製造方法、及びこの方法で得られた高純度シリコン、並びに高純度シリコン製造用シリコン原料[ja]

被引：0

申请号：

JP20140503378

申请日：

2012-03-08

公开(公告)号：

JPWO2013132629A1

公开(公告)日：

2015-07-30

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C01B33/037

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共 50 条

[1]

高純度結晶シリコン、高純度四塩化珪素およびそれらの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010029894A1 ,2012-05-17

[2]

シリコン接合体の製造方法、および、シリコン接合体[ja] [P].

KATASE TAKUMA ;

TANAKA TERUKI ;

SHIONO ICHIRO .

日本专利 :JP2023158353A ,2023-10-30

[3]

シリコン部材、および、シリコン部材の製造方法[ja] [P].

NISHIMURA KAZUYASU .

日本专利 :JP2024143019A ,2024-10-11

[4]

シリコンの製造方法及び製造装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011055650A1 ,2013-03-28

[5]

高純度苛性カリの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007018203A1 ,2009-02-19

[6]

シリコン複合体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024530098A ,2024-08-16

[7]

ナノシリコンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7191410B1 ,2022-12-19

[8]

高純度１，３－ブチレングリコールの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7408005B1 ,2024-01-04

[9]

シリコンブロックおよびシリコンウェハの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006120736A1 ,2008-12-18

[10]

シリコーン重合体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017122465A1 ,2018-11-08

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