リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用膜、パターン形成方法及び精製方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20160517938

申请日：

2015-05-08

公开(公告)号：

JPWO2015170736A1

公开(公告)日：

2017-04-20

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/11

IPC分类号：

C08F16/32 C08F20/18 C08G8/08 C08G59/02 C08G59/06 G03F7/20 G03F7/26 H01L21/027

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法律状态：

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共 50 条

[1]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020105694A1 ,2021-02-15

[2]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020004316A1 ,2021-08-02

[3]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020105692A1 ,2021-10-14

[4]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018212116A1 ,2020-03-12

[5]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020039966A1 ,2021-08-26

[6]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023010747A ,2023-01-20

[7]

リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016163456A1 ,2018-02-08

[8]

リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP6052652B1 ,2016-12-27

[9]

リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016163457A1 ,2017-04-27

[10]

リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013024779A1 ,2015-03-05

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