リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20160554521

申请日：

2016-04-07

公开(公告)号：

JP6052652B1

公开(公告)日：

2016-12-27

发明(设计)人：

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IPC主分类号：

G03F7/11

IPC分类号：

G03F7/26

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共 50 条

[1]

リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016163456A1 ,2018-02-08

[2]

リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016163457A1 ,2017-04-27

[3]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020105694A1 ,2021-02-15

[4]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020004316A1 ,2021-08-02

[5]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020105692A1 ,2021-10-14

[6]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020039966A1 ,2021-08-26

[7]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018212116A1 ,2020-03-12

[8]

リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016021511A1 ,2017-05-25

[9]

リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、レジストパターン形成方法、及び回路パターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016140081A1 ,2017-12-14

[10]

リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023010747A ,2023-01-20

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