中空粒子の製造方法[ja]

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申请号
JP20150218250
申请日
2015-11-06
公开(公告)号
JP6610174B2
公开(公告)日
2019-11-27
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
B01J13/18
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[41]
中空粒子、その製造方法及びその用途[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019177006A1 ,2021-03-18
[43]
シリカナノ中空粒子の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6032591B2 ,2016-11-30
[44]
ナノシリカ中空粒子の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6967256B2 ,2021-11-17
[45]
改質中空粒子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7557354B2 ,2024-09-27
[49]
ナノ中空粒子およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013073475A1 ,2015-04-02
[50]
無機質中空粒子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6191987B2 ,2017-09-06