プラズマ処理表面上の組成[ja]

被引：0

申请号：

JP20190517213

申请日：

2017-09-29

公开(公告)号：

JP2019536838A

公开(公告)日：

2019-12-19

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B05D1/26

IPC分类号：

B05D3/04 B05D7/00 C08J7/00 C08J7/043 C08J7/048 C12M1/34 C12Q1/6806 C12Q1/6876

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法律状态信息

共 50 条

[1]

プラズマ処理表面上の組成[ja] [P].

日本专利 :JP2022121519A ,2022-08-19

[2]

プラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2022105037A ,2022-07-12

[3]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019138654A1 ,2020-01-16

[4]

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置[ja] [P].

NAGAUMI KOICHI ;

OSHITA TATSURO ;

NAGASEKI KAZUYA ;

HIMORI SHINJI .

日本专利 :JP2022087334A ,2022-06-09

[5]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP7075540B1 ,2022-05-25

[6]

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2023067921A ,2023-05-16

[7]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

HIGUCHI RYUTA ;

SAITO TAKENAO ;

NAKAJIMA TOSHIKI ;

KITAMURA YUJI .

日本专利 :JP2025114638A ,2025-08-05

[8]

プラズマ処理方法、及びプラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019003483A1 ,2019-07-04

[9]

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2023054031A ,2023-04-13

[10]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020012907A1 ,2020-07-27

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